捷普pvd是什么工艺

捷普pvd是物理气相沉积工艺。此工艺在高度真空，并且大都在150到500℃温度间发生， PVD エ艺包括电弧蒸发、溅射、离子镀以及增强溅射。

PVD 就是物理气相沉积，此エ艺在高度真空，并且大都在150到500℃温度间发生。

在 PVD 工艺中的高纯度固体涂层材料(金属如钛、铬和铝)既可通过加热或通过离子轰击溅射)来得到蒸发。