光刻机究竟是什么物品，国外人为什么会限定大家选购？
如今的社会中，绝大多数的电子产品，像计算机、手机上、车辆、飞机场都要芯片的支持。
芯片是啥，这是如何制造出的？
一枚芯片，只不过是手指甲这么大，却在几十mm2的环境里，运作几十亿个晶体三极管。
需要制造芯片，光刻机是很难避开的关键机器设备。运用紫外光去掉单晶硅片表层的防护膜，这些设备便是光刻机。
它是一个成像设备，可以把光源照射设定好一点的图象，根据成像技术把电源电路图型精准拷贝到单晶硅片上，进而制造出芯片所需要的图型和功能分区。
基本原理非常简单，关键在于必须纳米其他精准度。如同核弹爆炸的基本原理，早已不是哪些国家秘密，但是真正制造出一枚原子弹，却没有那么容易的事。
制造光刻机有什么难题？
关键在于光源难题。
光刻机要用紫外线描绘在单晶硅片上，这对于光源拥有非常高的规定。
现阶段，全世界最先进光刻机早已保证3纳米技术。这儿的3纳米是指连接点科技的关键尺寸，是指栅压长短（gate length），其实就是单独晶体三极管长度。
这一长短越低，代表着在相同面积单晶硅片上能够安排的晶体三极管越大。栅压的变小是提高元器件分断信号频率关键方法之一。频率快了，则意味着芯片跑的快。
听说这种光刻机能够生产加工13 纳米管条。我们自己的头发丝直径约是 50~70μm，换句话说，这类光刻机能够勾画出仅有头发丝直径1/5000线条。
目前世界最先进光刻机是西班牙ASML厂生产的极紫外光刻机（EUV）。相比DUV光刻机，是把193nm的短波紫外线换成了13.5nm的极紫外光，能够将光刻工艺拓展到32nm以内的特征尺寸。
而EUV光刻机的光源是来自于美国Cymer，这一13.5nm的极紫外光是以193nm的短波紫外线多次反射以后所得到的。大道理是这样说的，能做下去太艰难了。
美国这一家生产制造EUV光刻机光源的企业是世界上唯一的一家公司，换句话说除开他们家，周围的人都没法生产制造。
并没有光源，光刻机就难以工作中。这便是垄断性。
其次反射镜片。
反射镜片作用是把模版里的电路原理图等比例缩小，在单晶硅片内以电路原理图的方式呈现出去，这也是制造芯片的关键所在元器件。
ASML企业EUV光刻机的反射镜片来源于德国卡尔蔡司。
EUV多层膜反射镜片做为光学元件的主要元器件，变成了EUV光源的一项核心技术，需完成EUV波长高透射率。
第三便是工作台的精度。
光刻机的工作台控制住了芯片在制造生产过程中的纹理离子注入，工作台移动精度越大，所加工制作芯片精度也就越高。
ASML企业的EUV光刻机工作台使用的是一种高精度的干涉仪，为此开展轴体台位移测量，构建起一个闭环控制的自动控制系统，从而实现纳米的超精密同歩健身运动。
在芯片制造环节中，并非一次曝光就能完成的，在制造过程中需要亲身经历多次曝光，这就意味着，在芯片制作中要进行再次指向实际操作。
芯片的每一个元器件中间都只有几纳米技术的间距，在这样的情况下，掩膜与硅晶圆间的指向偏差都必须要操纵在几纳米范围内。
ASML企业开发出了双工作台，在一个工作台进行扫描仪曝出的与此同时，另一个工作台还可以同步进行指向、变焦、下片等行为。
接下来就是耗电量难题。
EUV光刻机耗电量很高，这需要将整个办公环境都抽真空以防止尘土。EUV光刻机运行时一小时耗电量最少150度。这个比比特币挖矿还需要耗电！
我们自己光刻机做到了极致什么级别呢？
ASML的EUV光刻机已可用13.5nm极紫外光制造7nm、乃至3nm的芯片。我国主要或是选用深紫外线的193nm芯片制造工艺，可以做26nm的芯片。
据悉，上海微电子目前已经攻克了14nm光刻机，尽早很难达到国际性最先进光刻机水准，可是在、汽车和民用型行业，及其武器使用的芯片上，己经能够自力更生。
与ASML的EUV光刻机对比，大家就好像是手里拿着一把圈尺，需要精确测量国际性米原器的精度一样。不摆脱技术要求，难度系数之深，显而易见。
外国人为了能抵制大家在半导体材料领域发展，不仅限定ASML出入口给国家EUV光刻机，哪怕是选用深紫外线的DUV光刻机都限定对国内出入口。
ASML企业在EUV光刻机光源的供应上依赖于国外，只能终止为国内供应，但是它的销售总额骤减，损失严重。
此次尽管喊出给我们供应，也只不过是修复DUV光刻机出口，最好是再底气一点，立即再加上EUV光刻机，看一下外国人还谈什么指指点点？